一．拋光粉的總類：

拋光粉通常由氧化鋁、氧化硅、氧化鋯、氧化鈰等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化拋光粉的種類及拋光效果分析

學性質也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鋯的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化硅為7，氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活 性較高，硬度也相當，因此廣泛用于玻璃的拋光。

二．對拋光粉的基本要求：

（1）微粉粒度均勻一致，在允許的范圍之內；

（2）有較高的純度，不含機械雜質；

（3）有良好的分散性，以保證加工過程的均勻和高 效，可適量添加分散劑提高懸浮率；

（4）粉末顆粒有一定的晶格形態，破碎時形成銳利的棱角，以提高拋光效率；

（5）有合適的硬度和密度，和水有很好的浸潤性和懸浮性，因為拋光粉需要與水混合

粒度越大的拋光粉，磨削力越大，越適合于較硬的材料，要注意的是，所

有的拋光粉的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢，而大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此，要得 到高精度要求，須控制拋光粉的顆粒。普通拋光粉之所以存在劃傷，就是有大顆粒的原因。所以一般選擇粒徑分布范圍窄的納米拋光粉（VK-L30F）。

  拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時，漿料濃度因適當調低以得 到合適的流動性，一般建議在7-10%

三．拋光模的選擇

拋光模應該用軟一點的。應該指出的是，很多聚氨酯拋光片中添加了氧化鈰拋光粉。這些拋光粉的大顆粒度同樣決定了拋光的精度。一般使用不加拋光粉的拋光模。

四．影響拋光粉性能的指標

1、粉體的粒度大小：顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度，過篩的篩網目數能掌握粉體相對的粒度的值，平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

2、粉體莫氏硬度：硬度相對大的粉體具有較快的切削效果，同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應用領域會有很大出入，包括自身加工工藝。

3、粉體懸浮性：好的拋光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響，納米粒徑的拋光粉的懸浮性相對的要好一些，所以精拋一般選擇納米拋光粉。

4、粉體的晶型：粉體的晶型是團聚在一起的單晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，顆粒為球型的拋光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動性。

五．拋光范圍細分：

作為精細拋光材料，目前市場上用量大的幾類拋光粉主要是氧化鋁拋光粉，氧化鈰拋光粉，氧化硅拋光粉等。

氧化鋁拋光粉：

氧化鋁拋光粉（VK-L30F）一般用于大理石石材拋光，金屬鋁材拋光，金屬不銹鋼拋光，金相（亞克力板）拋光，PCB印制電路板拋光，油漆拋光，樹脂拋光，玉石拋光，顆粒大小根據要求一般分布在0.2-0.5um之間。

   2. 二氧化硅拋光粉：

一般用于人工晶體，寶石拋光，或者金屬制品精拋后修 復其少量的瑕疵。其粒徑一般分布在0.3-1um

   3. 氧化鈰拋光粉或者拋光液(VK-Ce02W)：

用于鏡頭、電視顯像管、眼鏡片、晶圓，光學元件、光纖、藝術玻璃、電子玻璃、平板玻璃等的拋光。一次粒徑一般要求在20-30nm,二次粒徑一般要求0.2um。

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